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半導体・電子部品
半導体は、ウエハ上で成膜、露光、エッチング、イオン注入などの工程を繰り返すことで製造されます。また、検査を含むそれらの工程の多くは真空環境下で行われます。その各工程の真空排気に中低真空用にはドライ真空ポンプが、高真空用にはターボ分子ポンプやクライオポンプが用いられます。
エッチング用真空ポンプには、使用ガスに対する耐腐食性、副生成物の堆積を防ぐ温度制御、大流量の反応ガスを排気する高流量性能と発熱に対応する冷却能力が求められます。更に装置への設置の自由度も重要です。
当社の反応生成物対策型磁気軸受形ターボ分子ポンプのTGkine®MI-Bシリーズ・TGkine®MI-Rシリーズ・TG-MIシリーズは、大排気速度・耐食性・温度制御能力・高流量性能・冷却能力・設置の自由度を兼ね備えています。
また、当社の極低振動型磁気軸受形ターボ分子ポンプTG-MLシリーズは、リソグラフィや微細加工された形状を測定するCD-SEM・TEMなどの装置で使用され、清浄且つ最高レベルの低振動性能を持ち得ています。
スパッタリング、PVD
ターボ分子ポンプ
ルーツ真空ポンプ
ドライ真空ポンプ
油回転真空ポンプ
CVD、ALD
ターボ分子ポンプ
ルーツ真空ポンプ
ドライ真空ポンプ
油回転真空ポンプ
露光
ドライエッチング、ALE
イオン注入
検査