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半导体・电子产品
半导体零件是在单晶硅晶圆上，反复进行镀膜，光刻，刻蚀，离子注入等工序制造而成。半导体诸多工序包括检测都离不开真空环境。半导体制造工序进行真空排气时，低中真空使用干式真空泵。高真空使用涡轮分子泵，冷凝泵等。
刻蚀用分子泵通常被要求耐腐蚀性，防止生成物堆积的温度控制机制，进行大流量反应气体排气的高流量性能和冷却机制。另外，设备安装时的自由度通常也被重视。
敝司的反应生成物对应型磁悬浮涡轮分子泵的TGkine®MI-B系列・TGkine®MI-R系列・TG-MI系列兼备大排气速度，耐腐蚀性，温度控制能力，高流量性能，冷却能力，安装角度自由。
另外，敝司的极低振动型磁悬浮涡轮分子泵TG-ML系列可用于光刻和测量微细加工形状的CD-SEM・TEM等设备，具有清洁与最高水平的低振动性能。
自适应泵
溅镀、PVD
CVD、ALD
光刻
干刻蚀、ALE
离子注入
检查设备