耐反应生成物TG-MI系列
对于容易堆积反应生成物的设备来说,采取措施防止在设备内部的反应生成物的堆积、固化很重要。TG-MI是大阪真空通过独特的设计手法将隔热构造/自我升温机构(日本知识产权第3098140号)融入分子泵中, 实现了减少反应生成物的堆积与固化的系列产品。充分延长了分子泵的寿命与维护周期。
■以往产品的反应生成物对策
包括对象部位的周围整体的加热。
・热度会分散。不能有效利用。
・其他部位也会受到热度的影响。
■通过使用TG-MI系列
使用外部加热器实现升温,同时利用在泵内部产生的气体的摩擦热,来使接触气体部位高效率地升温
・可以减小外部加热器的输出功率,得到节能的效果。
・可以防止主要部分受到热度影响,防止泵受损。
・排气口采用了绝缘材料。保持了最佳温度,防止排气口堆积生成物。
用途
・半导体、FPD、MEMS制造等蚀刻设备
・易生成反应生成物的设备
规格
TG390MI | TG420MI | TG900MI | TG1300MI | TG2400MI | ||
吸气口法兰 | VG100 ISO-B100 |
VG150 ISO-B160 |
VG150 ISO-B160 |
VG200 ISO-B200 |
VG250 ISO-B250 |
|
排气速度 | N2(L/s) | 340 | 400 | 900 | 1300 | 2400 |
N2(附加金属保护网)(L/s) | 320 | 370 | 860 | 1230 | 2300 | |
H2(L/s) | 290 | 300 | 1050 | 1200 | 1100 | |
最大压缩比 | N2 | 1×108 | ||||
H2 | 4.5×103 | 1.5×104 | 8.3×102 | |||
极限压力 | (Pa/Torr) | < 1×10-6/< 7.5×10-9 | ||||
最大气体流量※1 | N2(sccm) | 1000 | 3000 | |||
启动时间 (min) | 2-3 | 4-5 | ||||
停止时间 (min) | 4-5 | |||||
允许辅助压力 | (Pa/Torr) | 350/2.6 | 500/3.8 | 150/1.1 | ||
推荐辅助泵 (L/min) | ≧160 | ≧250 | ≧500 | |||
重量 (kg) | 18 | 42 | 56 | |||
控制器型号 | TC010MAT |
外观尺寸表
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性能曲线
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控制器
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