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超高真空型TG-MU系列
■极限真空度高的TG-MU系列
・在超真空环境下,残留气体中最多的是氢气等比较轻的气体。通过提高轻气体的排气性能,实现较好的真空环境。 ・如果初期排气达到更好的真空环境的话,在残留气体较少的情况下实现制造加工工艺,提高产品品质。
用途
・溅射设备,分析・试验设备等・高性能半导体,电子元件等开发制造・加速器,放射光设施,核聚变研究等
规格
外观尺寸表
详情请咨询销售人员。
性能曲线
控制器
产品信息