製品情報

超高真空形TG-MU

  • 超高真空形TG-MU
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■到達圧力を向上したTG-MUシリーズ

 ・超高真空環境下では、残留ガスの多くは水素などの軽ガスです。軽ガスの排気性能を向上することにより、より良い真空環境が得やすくなります。
 ・初期排気で良い真空環境を得ることができれば、残留ガスが少ない状況で製造加工プロセスが実施でき、製品の品質が向上します。

用途

・スパッタリング装置、分析・試験装置等
・高性能な半導体、電子部品等の開発・製造
・加速器、放射光施設、核融合研究等


仕様

  TG900MU TG1300MU
吸気口フランジ CF160 CF200
排気速度  N2(L/s) 900 1300
N2(保護金網付)(L/s) 860 1230
H2(L/s) 1050 1200
最大圧縮比 N2 1×108
H2 6.0×104
到達圧力 (Pa/Torr) < 1×10-8/< 7.5×10-11
最大ガス流量※1 N2 (sccm) 3000
起動時間 (min) 4-5
停止時間 (min) 4-5
許容補助圧力 (Pa/Torr) 500/3.8
推奨補助ポンプ (L/min) ≧250
質量 (kg) 42
ターボコントローラ型式 TC010MA
  • ※1:補助ポンプ容量を1000L/minとした場合の許容最大流量
  • ※2:外観寸法図は標準形と同一です。

外観寸法図

外観寸法図


詳しくは営業担当者までお問合せ下さい。

性能曲線

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コントローラ

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