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製品情報
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超高真空形 TG-MUシリーズ
■到達圧力を向上したTG-MUシリーズ
・超高真空環境下では、残留ガスの多くは水素などの軽ガスです。軽ガスの排気性能を向上することにより、より良い真空環境が得やすくなります。
・初期排気で良い真空環境を得ることができれば、残留ガスが少ない状況で製造加工プロセスが実施でき、製品の品質が向上します。
用途
・スパッタリング装置、分析・試験装置等
・高性能な半導体、電子部品等の開発・製造
・加速器、放射光施設、核融合研究等
仕様
| TG900MU | TG1300MU | ||
| 吸気口フランジ | CF160 | CF200 | |
| 排気速度 | N2(L/s) | 900 | 1300 |
| N2(保護金網付)(L/s) | 860 | 1230 | |
| H2(L/s) | 1050 | 1200 | |
| 最大圧縮比 | N2 | 1×108 | |
| H2 | 6.0×104 | ||
| 到達圧力 | (Pa/Torr) | < 1×10-8/< 7.5×10-11 | |
| 最大ガス流量※1 | N2 (sccm) | 3000 | |
| 起動時間 (min) | 4-5 | ||
| 停止時間 (min) | 4-5 | ||
| 許容補助圧力 | (Pa/Torr) | 500/3.8 | |
| 推奨補助ポンプ (L/min) | ≧250 | ||
| 質量 (kg) | 42 | ||
| ターボコントローラ型式 | TC010MA | ||
- ※1：補助ポンプ容量を1000L/minとした場合の許容最大流量
- ※2：外観寸法図は標準形と同一です。
外観寸法図
詳しくは営業担当者までお問合せ下さい。
性能曲線
詳しくは営業担当者までお問合せ下さい。
コントローラ
詳しくは営業担当者までお問合せ下さい。