超高真空型TG-MU
■极限真空度高的TG-MU系列
・在超真空环境下,残留气体中最多的是氢气等比较轻的气体。通过提高轻气体的排气性能,实现较好的真空环境。
・如果初期排气达到更好的真空环境的话,在残留气体较少的情况下实现制造加工工艺,提高产品品质。
用途
・溅射设备,分析・试验设备等
・高性能半导体,电子元件等开发制造
・加速器,放射光设施,核聚变研究等
规格
TG900MU | TG1300MU | ||
吸气口法兰 | CF160 | CF200 | |
排气速度 | N2(L/s) | 900 | 1300 |
N2(附带金属保护网)(L/s) | 860 | 1230 | |
H2(L/s) | 1050 | 1200 | |
最大压缩比 | N2 | 1×108 | |
H2 | 6.0×104 | ||
极限压力 | (Pa/Torr) | < 1×10-8/< 7.5×10-11 | |
最大气体流量※1 | N2 (sccm) | 3000 | |
启动时间(min) | 4-5 | ||
停止时间(min) | 4-5 | ||
允许辅助压力 | (Pa/Torr) | 500/3.8 | |
推荐辅助泵(L/min) | ≧250 | ||
重量(kg) | 42 | ||
控制器型号 | TC010MA |
外观尺寸表
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性能曲线
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控制器
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