到達圧力を向上したTG-MUシリーズ

超高真空環境下では、残留ガスの多くは水素などの軽ガスです。軽ガスの排気性能を向上することにより、より良い真空環境が得やすくなります。
初期排気で良い真空環境を得ることができれば、残留ガスが少ない状況で製造加工プロセスが実施でき、製品の品質が向上します。

TG1300MU排気曲線


用　途

  • ■ スパッタリング装置、分析・試験装置等
  • ■ 高性能な半導体、電子部品等の開発・製造
  • ■ 加速器、放射光施設、核融合研究等

仕　様

  TG900MU TG1300MU
吸気口フランジ
 CF160 CF200
排気速度 (L/s)
N2
 900 1300
(保護金網付) N2
 860 1230
 H2
 1050 1200
最大圧縮比
N2
 1×108
H2
 6.0×104
到達圧力
(Pa)
 < 1×10-8
(Torr)
 < 7.5×10-11
最大ガス流量※1 (sccm)
N2
 3000
起動時間 (min)
 4-5
停止時間 (min)
 4-5
許容補助圧力
(Pa)
 500
(Torr)
 3.8
推奨補助ポンプ (L/min)
 ≧250
質量 (kg)
 42
ターボコントローラ型式
 TC011M
  • ※1：補助ポンプ容量を1000L/minとした場合の許容最大流量
  • ※2：外観寸法図は標準形と同一です。