金属零部件镀膜所用真空泵的介绍
本期,我们将介绍,美国纽约州Vergason Technology公司使用我们的涡轮分子泵成功搭载在其生产的CatArc® 3036离子镀膜设备上的案例。
我们日常生活中的金属制品或部件,若不经过处理,几乎无法长期使用。因此,表面处理就显得尤为重要。常见的表面处理方法有很多种,如涂装、电镀、喷涂、热处理和真空镀膜(蒸镀)等。在这些方法中,能够提高硬度和耐磨性,并且需要使用高真空的就是真空镀膜(蒸镀)。
真空薄膜(蒸镀)大致分为物理气相沉积(PVD;Physical Vapor Deposition)和化学气相沉积(CVD;Chemical Vapor Deposition)两种方法。PVD 是利用物理反应的蒸镀方法,通过热能或等离子体将固体原材料气化,并与反应性气体反应,从而形成薄膜。根据将固体原材料气化的方法不同,可分为真空蒸镀法、离子镀法和溅射法。CVD 是利用化学反应的蒸镀方法,含有薄膜元素的原材料气体通过某种能量分解并形成薄膜。根据气体的分解方式不同,CVD 进一步细分为热CVD法、等离子CVD法和光CVD法等。
大阪真空的涡轮分子泵广泛应用于真空蒸镀法、离子镀法和溅射法,并被国内外众多设备制造商采用。其中之一是美国的Vergason Technology公司,该公司作为高性能PVD硬质涂层供应商已有30多年的良好声誉。
[Vergason Technology公司制造 离子镀膜设备CatArc® 3036]
Vergason Technology公司生产的CatArc® 3036是一款高品质且低成本的离子镀膜设备,具有人体工学设计的紧凑结构,同时具备大量的处理能力。该设备能够支持多种电源选择,如源电源、偏压电源、测量仪器,以及温度监测和控制方面的广泛选项。设备配备了6个加热器、最多4个质量流量控制器(MFC)以及弧增强辉光放电(Arc Enhanced Glow Discharge;AEGD)刻蚀功能。该AEGD刻蚀系统具备与使用高频的多种刻蚀系统同等的性能,同时更加简便且坚固,特别适用于工业镀膜应用。此外,设备标配了4个IGBT开关弧源电源,支持更高的成膜速度及多种镀膜材料。该设备设计紧凑,带有脚轮,便于移动和安装。
该离子镀膜设备CatArc® 3036适用于汽车、装饰、医疗、机械及切削工具、运动用品以及许多特殊用途的涂层应用,并采用了我公司的高流量规格 TGkine3800M-B分子泵。
[离子镀膜设备概要图]
不同的产业领域对真空环境的需求各不相同。为了根据客户的需求打造最适合的真空环境,需要各种真空系统(排气单元、真空泵组、真空设备)。大阪真空为此提供了广泛的真空产品系列。自公司成立以来,凭借着约75年的技术积累、经验与成果,在真空系统的设计、构建和制造方面,我们不仅提供从高真空到低真空的真空泵和真空部件等单品,还能够将这些产品整合到真空系统中根据需求进行提案。欢迎随时联系我们。
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