案例介绍

～与高能加速器研究机构（KEK）的共同研究～

大阪真空创立70年以来，坚持不懈的为客户提供稳定、可靠的产品，不断的提高客户满意度及改善用户体验。此次为进一步提升真空设备的排气性能，大阪真空携手高能加速器研究机构（KEK）物质机构科学研究所的间濑一彦准教授共同研究，对真空腔体内部进行Pd(钯)、Pd/Ti(钯/钛)镀膜，并测定其排气特性。

真空腔体与真空设备

测定数据显示， Pd镀膜腔体的排气时间缩短至原来的1/7，Pd/Ti镀膜腔体的排气时间缩短至原来的1/5，并且极限压力亦有所降低。其测定结果可以肯定，镀膜后的排气特性不会受到大气重复吸入的影响。通过于真空腔体进行Pd、Pd/Ti镀膜，有效缩短排气时间，进而缩短制程周期，令生产效率获得卓越的提升。

此项研究结果期待应用在加速器/宇宙实验用真空腔体/电子显微镜/光电子能谱仪/一般真空设备等方面。

如有任何疑问或需要更多的信息，请咨询本公司相关销售团队。

我们将诚挚地为您服务。

*PCT专利申请中

大学共同利用机关法人高能加速器研究机构
非蒸散型吸气剂涂敷部件、容器、制法、装置
201780073255.2

【咨询方式】

敝公司主页：https://www.osakavacuum.co.jp/cn/contact/input.php