通过Pd、Pd/Ti镀膜实现排气性能大幅度提升
大阪真空创立70年以来,坚持不懈的为客户提供稳定、可靠的产品,不断的提高客户满意度及改善用户体验。此次为进一步提升真空设备的排气性能,大阪真空携手高能加速器研究机构(KEK)物质机构科学研究所的间濑一彦准教授共同研究,对真空腔体内部进行Pd(钯)、Pd/Ti(钯/钛)镀膜,并测定其排气特性。
真空腔体与真空设备
测定数据显示, Pd镀膜腔体的排气时间缩短至原来的1/7,Pd/Ti镀膜腔体的排气时间缩短至原来的1/5,并且极限压力亦有所降低。其测定结果可以肯定,镀膜后的排气特性不会受到大气重复吸入的影响。通过于真空腔体进行Pd、Pd/Ti镀膜,有效缩短排气时间,进而缩短制程周期,令生产效率获得卓越的提升。
此项研究结果期待应用在加速器/宇宙实验用真空腔体/电子显微镜/光电子能谱仪/一般真空设备等方面。
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*PCT专利申请中
大学共同利用机关法人高能加速器研究机构
非蒸散型吸气剂涂敷部件、容器、制法、装置
201780073255.2
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