ターボ分子ポンプの開発を始まりとする大阪真空の清浄高真空分野への取り組みは、 理化学研究分野をはじめ、半導体・液晶分野などの発展と共に拡大しています。 当社では、操作性・生産性の高いシステムの提供に努めており、いずれの装置もユーザーのニーズが 充分に反映されたものになっています。
エッチング装置
Vカソードスパッタリング装置
プラズマ発生装置
円筒外面スパッタリング装置
レーザーアブレーション用真空装置
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